一、機械拋光

　　深圳鋅合金壓鑄廠運(yun)用的(de)(de)機(ji)械拋(pao)光首(shou)要(yao)是(shi)(shi)靠切削或使資料(liao)外(wai)表發生塑性變(bian)形而去掉工件外(wai)表凸出部得(de)到平(ping)滑面的(de)(de)拋(pao)光辦(ban)法(fa)，在(zai)含(han)有磨(mo)料(liao)的(de)(de)研(yan)拋(pao)液中(zhong)，緊壓在(zai)工件被(bei)加(jia)工外(wai)表上(shang)，作高速旋轉運(yun)動。使用該技能可到達ra0.008μm的(de)(de)外(wai)表粗(cu)糙度，是(shi)(shi)各種拋(pao)光辦(ban)法(fa)中(zhong)外(wai)表粗(cu)糙度好的(de)(de)。光學鏡片模(mo)具常選用這種辦(ban)法(fa)。機(ji)械拋(pao)光是(shi)(shi)模(mo)具拋(pao)光的(de)(de)首(shou)要(yao)辦(ban)法(fa)。

二、化學拋光

　　化學拋光是資料在化學介質中讓外(wai)表微觀(guan)凸(tu)出的部分(fen)較凹部分(fen)優(you)先(xian)溶解，然后得到平滑面。該辦法可(ke)以(yi)(yi)拋光形狀(zhuang)雜亂的工(gong)件(jian)，可(ke)以(yi)(yi)同時拋光許多工(gong)件(jian)，效率高(gao)。化學拋光得到的外(wai)表粗糙度一(yi)般為(wei)ra10μm。

三、電解拋光

　　電解拋光基本原理與(yu)(yu)化(hua)學拋光相(xiang)同(tong)，即(ji)靠(kao)選擇性溶解資料外(wai)表(biao)細小凸出部(bu)分，使(shi)外(wai)表(biao)光滑。與(yu)(yu)化(hua)學拋光比較(jiao)，它可消除陰極反應的影響(xiang)，效果較(jiao)好。

四、超聲波拋光

　　超(chao)聲(sheng)(sheng)拋光(guang)是使用東西(xi)斷(duan)面作(zuo)(zuo)超(chao)聲(sheng)(sheng)波振蕩(dang)，通過磨(mo)料懸浮液(ye)拋光(guang)脆硬資料的一種(zhong)加(jia)工(gong)(gong)辦法。將工(gong)(gong)件(jian)(jian)放入(ru)磨(mo)料懸浮液(ye)中并一同置(zhi)于超(chao)聲(sheng)(sheng)波場中，依托超(chao)聲(sheng)(sheng)波的振蕩(dang)效果，使磨(mo)料在工(gong)(gong)件(jian)(jian)外表(biao)磨(mo)削拋光(guang)。超(chao)聲(sheng)(sheng)波加(jia)工(gong)(gong)微觀力小，不會(hui)引起工(gong)(gong)件(jian)(jian)變形，但工(gong)(gong)裝(zhuang)制作(zuo)(zuo)和(he)裝(zhuang)置(zhi)較困難。

五、流體拋光

　　流體(ti)拋光(guang)是依托活動(dong)的液體(ti)及其攜帶(dai)的磨粒沖刷(shua)工件外(wai)表到(dao)達拋光(guang)的目的。流體(ti)動(dong)力(li)研(yan)磨是由液壓驅動(dong)，介質首要選用在較(jiao)低壓力(li)下流過性(xing)好的特殊(shu)化合物(wu)(聚合物(wu)狀物(wu)質)并摻入磨料制(zhi)成，磨料可選用碳化硅粉末。

六、磁研磨拋光

　　磁(ci)研磨拋光是使用磁(ci)性磨料(liao)在磁(ci)場效(xiao)果下構(gou)成磨料(liao)刷，對工(gong)件磨削加工(gong)。這種辦(ban)法加工(gong)效(xiao)率高(gao)，質(zhi)量好，加工(gong)條件簡單控(kong)制。選用合適的磨料(liao)，加工(gong)的外表粗糙度可到達ra0.1μm。